高純水制取設(shè)備設(shè)備

EDI高純水設(shè)備是應(yīng)用在反滲透系統(tǒng)之后，取代傳統(tǒng)的混床離子交換技術(shù)生產(chǎn)穩(wěn)定的超純水。EDI超純水技術(shù)有如下優(yōu)點(diǎn)：

高純水制取設(shè)備設(shè)備

EDI設(shè)備又稱連續(xù)電除鹽是將兩種已經(jīng)成熟的水凈化技術(shù)--電滲析和離子交換相結(jié)合，溶解的鹽在低能耗的條件下被去除，在運(yùn)行過(guò)程中不需要化學(xué)再生，并且其出水電阻率較混床出水還要高，可達(dá)10-18.2MΩ.CM，滿足國(guó)家電子級(jí)水I級(jí)標(biāo)準(zhǔn)。EDI對(duì)一級(jí)反滲透出水電導(dǎo)率沒(méi)有太高的要求，進(jìn)水電導(dǎo)率在4-30us∕cm其都能夠合格產(chǎn)水。可能需增加軟化裝置，去除水中的鈣、鎂離子。若電導(dǎo)率較高時(shí)只需調(diào)節(jié)運(yùn)行電流的大小和加藥量(氯化鈉)的大小。屬于環(huán)保型技術(shù)，離子交換樹脂不需酸、堿化學(xué)再生，節(jié)約大量酸、堿和清洗用水，大大降低了勞動(dòng)強(qiáng)度。更重要的是無(wú)廢酸、廢堿液排放，屬于非化學(xué)式的水處理系統(tǒng)，它無(wú)需酸、堿的貯存、處理及無(wú)廢水的排放。

高純水制取設(shè)備設(shè)備

EDI模塊將離子交換樹脂充夾在陰/陽(yáng)離子交換膜之間形成EDI單元。EDI工作原理如圖所示。EDI模塊中將一定數(shù)量的EDI單元間用格板隔開，形成濃水室和淡水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽(yáng)電極。在直流電的推動(dòng)下，通過(guò)淡水室水流中的陰陽(yáng)離子分別穿過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜進(jìn)入到濃水室而在淡水室中去除。而通過(guò)濃水室的水將離子帶出系統(tǒng)，成為濃水EDI設(shè)備一般以二級(jí)反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達(dá)18?MΩ.cm(25℃)，但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置，EDI超純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。

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