光學(xué)EDI超純水設(shè)備在投入生產(chǎn)使用一段時(shí)間后要對(duì)超純水設(shè)備進(jìn)行保養(yǎng)清洗,那么什么情況下要來清洗保養(yǎng)如何保養(yǎng)才能更好有效的保證設(shè)備的安全運(yùn)行。
1:定期保養(yǎng)清洗
大家都知道,任何設(shè)備都有保養(yǎng)規(guī)定,那么光學(xué)EDI超純水設(shè)備也不例外。因?yàn)?a href="http://www.weyiwe.cn/cpzx/gxediccssb/268.html" target="_blank">光學(xué)EDI超純水設(shè)備也是由原水塔—原水泵—砂濾器—碳濾器—精濾器—高壓泵—RO系統(tǒng)—純水箱—EDI模塊—超純水箱這些部分組成,按照設(shè)備使用保養(yǎng)周期來講:
砂濾器,碳濾器是30天用自來水正反洗10—15分鐘,一年更換一次罐內(nèi)的石英砂和活性碳。
精濾器內(nèi)的PP棉(如果自來水正常)30天要換一次(直接換掉PP棉沒法清洗)。
RO系統(tǒng)的RO膜一般情況下在清沅砂濾器、碳濾器時(shí)也可以把RO系統(tǒng)清洗一次,可以減少堵膜情況。正常情況下RO膜是一年半到兩年換一次。如果RO機(jī)的進(jìn)水水質(zhì)不在正常條件下或出水水質(zhì)超出了使用標(biāo)準(zhǔn) 在清洗解決不了水質(zhì)問題的情況下就要更換。
EDI 模塊的清洗,當(dāng)進(jìn)水溫度、流量不變的情況下,進(jìn)水側(cè)與產(chǎn)水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)升高45%左右;濃水進(jìn)水側(cè)與濃水排水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)升高45%左右;濃水排水流量下降55%左右;在進(jìn)水溫度、流量及電導(dǎo)率不變的情況下,產(chǎn)水水質(zhì)(電阻率)明顯下降的情況下就要對(duì)EDI模塊進(jìn)行清洗,清洗方法:
鹽酸溶液清洗,用1000L的純水+60Kg38%濃鹽酸配制2%的鹽酸溶液循環(huán)清洗30分鐘,洗清后再用純水(中性水)通過清洗進(jìn)水口至回流管清洗到純水標(biāo)準(zhǔn)即可。然后再仍1000L純水+10Kg25%的H2O2溶液配制成1.2%的H2O2溶液對(duì)EDI模塊進(jìn)行循環(huán)清洗30分鐘后再用純水清洗使電導(dǎo)率達(dá)到100us/cm以下。最后用1000L純水+50Kg的Nac和14Kg的NaoH配制NaoH+5.%r Nacl的堿性水沖洗30分鐘即可完成EDI模塊的清洗。
以上就是光學(xué)EDI超純水設(shè)備如何清洗才安全的介紹,想要保證清洗的效果,需要按照不同時(shí)期,不同的污染程度結(jié)合不同的清洗方式來清洗光學(xué)EDI超純水設(shè)備。
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