佳潔凈水機(jī)在半導(dǎo)體行業(yè)主要的凈化工藝為：去顆粒物工藝(包括微粒子和T-Si等)，脫鹽工藝，去有機(jī)物(TOC和殺菌)和脫氣工藝(深度脫氧等)。其中各個工藝的組合，根據(jù)不同的原水水質(zhì)及處理水水質(zhì)要求等而有所差異。

1.顆粒物去除工藝

超純水中制造中顆粒物的去除方法一般是過濾去除或者吸附去除，不同尺寸的顆粒物所需的工藝也有差異。傳統(tǒng)的純水制造工藝中，顆粒物的處理一般是多介質(zhì)過濾器(MMF) +活性炭過濾器(ACF)，在半導(dǎo)體行業(yè)超純水的制造中，對顆粒物尺寸的要求更加嚴(yán)格，甚至嚴(yán)格到50nm微粒子的程度日，且目前很多半導(dǎo)體公司要求微粒子(小于50nm)的數(shù)量需小于100個/L。所以僅僅MMF+ACF，很難達(dá)到要求。這個需要用精密膜過濾裝置進(jìn)一步處理微小尺寸的顆粒物，如微濾(MF)，超濾(UF)，納濾(NF)和反滲透(RO)等等。MF的孔徑在0.02~10um，UF的過濾孔徑在0.001~0.02um，反滲透的孔徑為0.0001~0.001um，理論上組合膜過濾裝置，能滿足對顆粒物去除的要求。

半導(dǎo)體工業(yè)超純水制造工藝中，一般去除顆粒物，分為初始過濾，如MMF+ACF等；中端過濾裝置，如RO前端的安全過濾器等：為了保證RO穩(wěn)定高效運行，需要RO入口水SDI<5；終端過濾，一般是設(shè)置在最終端，通常是UF膜過濾裝置。所有工序完成后，可能前段過程中會有少量散落的微小顆粒，對微粒子進(jìn)行最后的深度處置。

2.脫鹽工藝

脫鹽工藝即去除水中離子的工藝，電阻率是水中離子含量的表征。常規(guī)的脫鹽工藝為RO濃縮工藝，離子交換樹脂的吸附工藝和電去離子(EDI) 工藝等等。

半導(dǎo)體行業(yè)超純水對于電阻率的要求非常嚴(yán)格，電阻率大于18.2(MQcm)，理論上幾乎不含離子，常規(guī)的單一工藝很難達(dá)到這一要求。一般都是幾種工藝聯(lián)合使用，如樹脂+RO+EDI等，各地自來水的離子含量也各有差別，根據(jù)不同的情況調(diào)整工藝組合情況，一般在顆粒物初級去除后，就需要進(jìn)行脫鹽工藝。

3.去有機(jī)物工藝

由于超純水的原水通常是自來水，我國的國標(biāo)規(guī)定的自來水沒有TO C的標(biāo)準(zhǔn)，代表有機(jī)物含量的指標(biāo)是CODmn，限值是3ppm，常規(guī)的自來水中的TO C大概在1~3ppm左右。表1中對TO C的要求是ppb級的， 所以對于TOC的處理也是需要多級工藝處理才可能達(dá)到水質(zhì)要求。ACF、UF、RO和EDI等都有處理TOC的能力。通常經(jīng)過這些前端處理，TOC大概降至10~30ppb左右，再通過TO C-UV燈裝置，能將TOC降至小于1ppb，最終達(dá)到半導(dǎo)體工廠的超純水水質(zhì)要求。

5.其他

 對于超純水的出水水質(zhì)控制，除了上述的要求，還有出水溫度，出水壓力等要求。由于最終要求的超純水要求特別嚴(yán)格，所以超純水制造工藝中，除了各種處理工藝，對于設(shè)備的材質(zhì)要求也很高，不合適的材質(zhì)可能導(dǎo)致雜質(zhì)溶出，造成二次污染，目前超純水的過流材料一般是PVDF，PTFE，PFA等材質(zhì)的特別穩(wěn)定的高分子合成材料(10)。設(shè)備自動化程度，設(shè)備運行的過程控制與管理等，也是半導(dǎo)體工業(yè)超純水制造和使用的時候，需要解決和重視的問題。

當(dāng)然，佳潔凈水機(jī)在半導(dǎo)體超純水制造系統(tǒng)中要達(dá)到穩(wěn)定有效的運行，還涉及到容器與管道接觸材料，自動化控制，設(shè)備維護(hù)和日常管理等等。

                        山東華芯半導(dǎo)體純水設(shè)備系統(tǒng)未完工的安裝現(xiàn)場圖

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