電子工業(yè)用超純水設(shè)備概括:半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區(qū)分不同水質(zhì)。
電子工業(yè)用超純水設(shè)備的工藝流程:
1.采用離子交換樹脂制備超純水的傳統(tǒng)水處理方式,其基本工藝流程為:原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→陽床→陰床→混床(復(fù)床)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點(diǎn)
2.采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合的方式,其基本工藝流程為:原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設(shè)備→混床(復(fù)床)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點(diǎn)
3.采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進(jìn)行搭配的的方式,這是一種制取超純水的***新工藝,也是一種環(huán)保,經(jīng)濟(jì),發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?,其基本工藝流程為:原?rarr;沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設(shè)備→電去離子(EDI)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點(diǎn)
電子工業(yè)用超純水設(shè)備特點(diǎn):電子工業(yè)超純水設(shè)備通常由多介質(zhì)過濾器,活性碳過濾器,鈉離子軟化器、精密過濾器等構(gòu)成預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床(EDI電除鹽系統(tǒng))系統(tǒng)等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、高低壓水泵均設(shè)有高低壓壓力保護(hù)裝置、在線水質(zhì)檢測(cè)控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器,真正做到了無人值守,同時(shí)在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法,使該設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較,具有更高的性價(jià)比和設(shè)備可靠性。
影響電子工業(yè)超純水設(shè)備水質(zhì)的兩個(gè)因素
1.流量對(duì)產(chǎn)水水質(zhì)的影響:
不同進(jìn)水流量時(shí)電子工業(yè)用超純水設(shè)備出水的電導(dǎo)率隨操作電流變化很小,這是因?yàn)樵陔娐飞希抑械娜芤合嗯c樹脂相是并聯(lián)關(guān)系,由于所填充的離子交換樹脂的導(dǎo)電能力遠(yuǎn)高于電滲析產(chǎn)水,因此樹脂相電阻成為淡室電阻大小的決定因素。離子傳輸主要通過樹脂相進(jìn)行,而在一定的淡水流量范圍內(nèi)流量對(duì)樹脂相電阻影響很小,故膜堆總電流不發(fā)生明顯變化,產(chǎn)水電導(dǎo)率變化也很小,因此進(jìn)水流量對(duì)水解離程度的影響很小。
2.操作電壓對(duì)產(chǎn)水水質(zhì)的影響:
電子工業(yè)用超純水設(shè)備出水水質(zhì)與操作電壓密切相關(guān)。操作電壓過小則不足以在純水排出之前將離子從淡室移出,電滲析過程和樹脂電再生過程都比較微弱,此時(shí)主要進(jìn)行的是離子交換過程。隨著操作電壓的增大則水解離程度增大、樹脂的再生效果好,使得淡水的電導(dǎo)率下降,當(dāng)操作電壓增加到一定程度時(shí)離子交換過程與樹脂的再生過程達(dá)到了平衡,產(chǎn)水電導(dǎo)率進(jìn)一步下降并趨于穩(wěn)定。但操作電壓過大將引起過量的水電離和離子反擴(kuò)散而降低產(chǎn)水水質(zhì)。所以,建議電子工業(yè)用超純水設(shè)備在適當(dāng)?shù)碾妷合逻\(yùn)行。
在運(yùn)行一段時(shí)間的電子工業(yè)用超純水設(shè)備需要根據(jù)實(shí)際情況進(jìn)行清洗,在清洗之前也需要調(diào)整好清洗壓力,在清洗過程中注意檢查,避免造成設(shè)備傷害。
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