純水設(shè)備在光學(xué)、電子生產(chǎn)中的重要作用日益突出,純水設(shè)備水質(zhì)已經(jīng)成為影響光學(xué)、電子產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品率以及生產(chǎn)成本的重要因素之一,水質(zhì)要求也是越來越高。在光學(xué)、電子的生產(chǎn)過程當(dāng)中,純水設(shè)備的主要用作清洗用水以及用來配制各種溶液、漿料,不同的產(chǎn)品在生產(chǎn)過程中純水的用途及對水質(zhì)的要求也略有不同。
在電解電容器的生產(chǎn)過程當(dāng)中,鋁箔及工作件的清洗需使用純水,如水質(zhì)當(dāng)中含有氯離子,電容器就會有漏電現(xiàn)象發(fā)生。在電子管的生產(chǎn)過程中,電子管陰極涂覆碳酸鹽,如果其中混入雜質(zhì),就會影響到電子的發(fā)生,進(jìn)而影響電子管的放大性能。在晶體生長過程中,純水中雜質(zhì)的存在會改變晶體上不同面網(wǎng)的表面能,導(dǎo)致其相對生長速度也隨之變化進(jìn)而影響晶體形態(tài)。
光學(xué)、電子用純水常用處理工藝分為:
1. 多介質(zhì)過濾器+活性炭過濾器+反滲透+混合離子交換器+拋光混床
特點(diǎn):使用反滲透減少酸堿的使用量,運(yùn)行費(fèi)用較低,環(huán)境污染減輕。
2. 自清洗過濾器+超濾+反滲透+電去離子(EDI)+拋光混床
特點(diǎn):自動化程度較高,無酸堿化,運(yùn)行費(fèi)用低,無環(huán)境污染。
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